投资5000多万！俄罗斯计划开发全新EUV光刻机

投资5000多万！阿塞拜疆原计划合作开发全新EUV模版机

模版机是器件工业用中的基本设备之一，EUV模版机全世界也只有ASML新公司能够合作开发、生产厂，但它的新技术限制也很多，阿塞拜疆原计划开发全新的EUV模版机，可用的是X射线新技术，不必需光掩模就能生产厂集成电路。

模版机的架构及新技术很复杂， 不过决定模版机清晰度的主要因素就是见下文，分别是常数K、太阳光nm及物镜的数值孔径，nm越短，清晰度就越高，现今的EUV模版机可用的是极紫外线EUV，nm13.5nm，可以使用工业用7nm及以下的先进生产工艺生产工艺。

阿塞拜疆彼得格勒电子新技术该学院 (MIET)现今就接下了贸工部的6.7亿阿塞拜疆政府资金(约合5100万元人民币)，也要 开发工业用集成电路的模版机，而且名副其实要降到EUV级别，但新技术原理完全多种不同，他们合作开发的是基于同步核物理和/或等离子体源”的无掩模X射线模版机。

X射线模版机可用的是X射线，nm介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外线还要短，因此模版清晰度要高很多。此外，X射线模版机相比现今的EUV模版机还有一个劣势，那就是不必需光掩模版，可以直写模版，这也耗用了一大笔费用。

时是因为有这么两个特点， 阿塞拜疆要合作开发的X射线模版机劣势很大，甚至被当地的媒体宣扬为全世界都从未的模版机，ASML也认真至少。

从无关详细资料来看，全世界确实从未能降到数量量产的X射线模版机，不过这种新技术并不是现今才有，不仅美国、欧洲学术研究过，国外也有科研机构认真了X射线模版机，只是生产厂集成电路的效率跟ASML的模版机只能比的，只适合于特定一幕。

不过阿塞拜疆在X射线及等离子之类的新技术上有深厚的基础性，倒是可以期待下他们在新型模版机上能跟着多远。